MATTSON二手刻蝕機(jī)ASPENIII，2006年設(shè)備，lightetcher，可對12英寸晶圓進(jìn)行蝕刻工藝處理

二手刻蝕機(jī)MATTSONPARADIGM，PRAsher設(shè)備，雙工作腔室，可對尺寸為12英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理，已拆卸和打包完成，可隨時發(fā)貨

二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)MATRIX102/105,打包封裝完成，隨時發(fā)貨

MATRIX303二手刻蝕機(jī),等離子氧化刻蝕系統(tǒng)，可對尺寸為2~6英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理

MATRIXSYSTEM10二手刻蝕機(jī)，反應(yīng)離子刻蝕RIE、Plasmaasher雙模式，可對6-8英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理

二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)MATRIXSYSTEMONE106，1995年設(shè)備，可對4-6英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工

二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨TOKYOOKA/TOKTCE-3822，2011年設(shè)備，可對尺寸為5英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝處理

二手現(xiàn)貨刻蝕機(jī)PVATEPLA/TECHNICS200SERIES，2005年設(shè)備，可對2~6英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理

PVATEPLA/TECHNICS300AUTOLOADPC刻蝕機(jī)

PVATEPLA/TECHNICS660刻蝕機(jī)二手現(xiàn)貨，2008年設(shè)備，僅運(yùn)行16小時，微波等離子刻蝕設(shè)備

AspenIII基于具有接地法拉第屏蔽的專有ICP源設(shè)計，為半導(dǎo)體制造商提供經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證且具有成本效益的剝離和蝕刻解決方案

Mattson二手刻蝕設(shè)備ParadigmE于2012年開始使用，針對于12寸晶圓的刻蝕處理

TEL刻蝕系統(tǒng)Tactras™是一種高度可靠的300毫米等離子蝕刻系統(tǒng)，可提高蝕刻工藝的工作效率

TEL刻蝕系統(tǒng)CertasLEAGA™是一種環(huán)保、高通量的氣體化學(xué)蝕刻系統(tǒng)，專為300毫米晶圓而設(shè)計，無需使用液體即可提供表面蝕刻和清潔

UNITY™Me在200毫米晶圓內(nèi)實(shí)現(xiàn)等離子蝕刻工藝的性價比，提供的可靠性和生產(chǎn)力

LRCRainbowEtcher是全自動在線單晶圓等離子/RIE蝕刻系統(tǒng)，可處理6英寸或8英寸晶圓，具有頂部或/和底部供電電極板、可編程電極間距和自動非接觸式晶...

LAMRESEARCH刻蝕系統(tǒng)TCP9400最初設(shè)計用于生產(chǎn)多晶硅蝕刻

Gasonics等離子刻蝕系統(tǒng)L3510設(shè)計用于半導(dǎo)體晶圓的灰化和清洗

SAMCO等離子刻蝕機(jī)RIE-300NR是一種理想的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，適用于加工?300mm晶圓和多晶圓（?3"×12，?4"×8等），具有優(yōu)異的均勻性

RIE等離子蝕刻系統(tǒng)RIE-200NL是一種負(fù)載鎖定型的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，它提高了工藝的可重復(fù)性，并允許腐蝕性氣體化學(xué)